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机译:sU-8膜的性能适用于深X射线灰度级光刻
Harutaka Mekaru;
机译:适用于深X射线灰度光刻的SU-8膜的性能
机译:用于深层X射线光刻的低成本透明SU-8膜掩模
机译:密集包装的SU-8的超深X射线光刻技术:II。工艺性能随剂量,特征高度和曝光后烘烤温度的变化而变化
机译:厚硅膜作为SU-8 X射线深光刻的掩模坯
机译:通过深X射线光刻和电镀实现的微电磁旋转电机。
机译:基于深X射线光刻技术的高纵横比锥形微柱的制备
机译:具有sU-8抗蚀剂的超深X射线光刻中的氧淬灭效应
机译:用于X射线或深X射线光刻的石墨掩模
机译:X射线照相术的掩膜,这种射线会随着时间的流逝而使X射线辐照造成膜的误导
机译:X射线光刻技术,膜的位置随时间的变化随时间变化很小
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